Magnetic resonance studies of three-layer FeNi/Bi/FeNi films

Патрин, К. Г.; Яриков, С. А.; Патрин, Г. С.; Яковчук, В. Ю.; Лямкин, А. И.

doi:10.1134/S1063776117040069

Author:

Патрин, К. Г.

Яриков, С. А.

Патрин, Г. С.

Яковчук, В. Ю.

Лямкин, А. И.

Corporate Contributor:

Институт инженерной физики и радиоэлектроники

Кафедра экспериментальной и инновационных технологий

Date:

2017-05

Journal Name:

Журнал Экспериментальной и Теоретической Физики - Journal of Experimental and Theoretical Physics

Journal Quartile in Scopus:

Journal Quartile in Web of Science:

Bibliographic Citation:

Патрин, К. Г. Magnetic resonance studies of three-layer FeNi/Bi/FeNi films [Текст] / К. Г. Патрин, С. А. Яриков, Г. С. Патрин, В. Ю. Яковчук, А. И. Лямкин // Журнал Экспериментальной и Теоретической Физики - Journal of Experimental and Theoretical Physics. — 2017. — Т. 124 (№ 5). — С. 916-923

Abstract:

Представлены результаты исследований межслоевых взаимодействий в трехслойных пленках FeNi/Bi/FeNi методом электронного магнитного резонанса. Показано, что заметную роль в формировании магнитного состояния пленочной структуры играет магнитная анизотропия на интерфейсе пермаллой–висмут. Установлено, что период осцилляций межслоевого взаимодействия составляет около 8 нм. Определены величины и температурные зависимости межслоевого обмена и интерфейсной анизотропии.

Collections:

Статьи в научных журналах (эффективный контракт) [5211]

Metadata:

Show full item record