Показать сокращенную информацию

Тарасов, А. С.
Лукьяненко, А. В.
Бондарев, И. А.
Яковлев, И. А.
Варнаков, С. Н.
Овчинников, С. Г.
Волков, Н. В.
2021-08-13T09:32:01Z
2021-08-13T09:32:01Z
2020-07
Тарасов, А. С. Эффект спиновой аккумуляции в эпитаксиальной структуре Fe3Si/n-Si и влияние на него электрического смещения / Spin Accumulation in the Fe3Si/n-Si Epitaxial Structure and Related Electric Bias Effect [Текст] / А. С. Тарасов, А. В. Лукьяненко, И. А. Бондарев, И. А. Яковлев, С. Н. Варнаков, С. Г. Овчинников, Н. В. Волков // Письма в Журнал технической физики =Technical Physics Letters. — 2020. — Т. 46 (№ 7). — С. 665-668
https://journals.ioffe.ru/articles/49591
https://elib.sfu-kras.ru/handle/2311/142695
Текст статьи не публикуется в открытом доступе в соответствии с политикой журнала.
Эффект спиновой аккумуляции в эпитаксиальной структуре Fe3Si/n-Si и влияние на него электрического смещения / Spin Accumulation in the Fe3Si/n-Si Epitaxial Structure and Related Electric Bias Effect
Journal Article
Journal Article Preprint
665-668
2021-08-13T09:32:01Z
10.1134/S1063785020070135
Институт инженерной физики и радиоэлектроники
Базовая кафедра физики твердого тела и нанотехнологий
Письма в Журнал технической физики =Technical Physics Letters
Q2
Q4


Файлы в этом документе

Thumbnail

Данный элемент включен в следующие коллекции

Показать сокращенную информацию