Показать сокращенную информацию
In situ electron diffraction and resistivity characterization of solid state reaction process in Cu/Al bilayer thin films
| Автор | Moiseenko, E. T. | |
| Автор | Altunin, R. R. | |
| Автор | Жарков, Сергей Михайлович | |
| Дата внесения | 2021-08-13T09:33:30Z | |
| Дата, когда ресурс стал доступен | 2021-08-13T09:33:30Z | |
| Дата публикации | 2020-03 | |
| Библиографическое описание | Moiseenko, E. T. In situ electron diffraction and resistivity characterization of solid state reaction process in Cu/Al bilayer thin films [Текст] / E. T. Moiseenko, R. R. Altunin, Сергей Михайлович Жарков // Metallurgical and Materials Transactions A: Physical Metallurgy and Materials Science. — 2020. — Т. 51 (№ 3). — С. 1428 | |
| ISSN | 10735623 | |
| URI (для ссылок/цитирований) | https://link.springer.com/article/10.1007%2Fs11661-019-05602-5 | |
| URI (для ссылок/цитирований) | https://elib.sfu-kras.ru/handle/2311/142923 | |
| Название | In situ electron diffraction and resistivity characterization of solid state reaction process in Cu/Al bilayer thin films | |
| Тип | Journal Article | |
| Тип | Journal Article Postprint | |
| Страницы | 1428 | |
| Дата обновления | 2021-08-13T09:33:30Z | |
| DOI | 10.1007/s11661-019-05602-5 | |
| Институт | Политехнический институт | |
| Подразделение | Кафедра материаловедения и технологии обработки материалов | |
| Подразделение | Научно-исследовательская часть | |
| Журнал | Metallurgical and Materials Transactions A: Physical Metallurgy and Materials Science | |
| Квартиль журнала в Scopus | Q1 | |
| Квартиль журнала в Web of Science | Q2 |
