Effect of the Structural Properties on the Electrical Resistivity of the Al/Ag Thin Films during the Solid-State Reaction
View/ Open:
URI (for links/citations):
https://link.springer.com/article/10.1134/S1063783420040034https://elib.sfu-kras.ru/handle/2311/142922
Author:
Altunin, R. R.
Moiseenko, E. T.
Жарков, Сергей Михайлович
Corporate Contributor:
Политехнический институт
Кафедра материаловедения и технологии обработки материалов
Научно-исследовательская часть
Date:
2020-04Journal Name:
Physics of the Solid StateJournal Quartile in Scopus:
Q3Journal Quartile in Web of Science:
Q4Bibliographic Citation:
Altunin, R. R. Effect of the Structural Properties on the Electrical Resistivity of the Al/Ag Thin Films during the Solid-State Reaction [Текст] / R. R. Altunin, E. T. Moiseenko, Сергей Михайлович Жарков // Physics of the Solid State. — 2020. — Т. 62 (№ 4). — С. 621Текст статьи не публикуется в открытом доступе в соответствии с политикой журнала.