Вакуумное ионно-плазменное оборудование для получения наноструктурных материалов
Скачать файл:
Полный текст на другом сайтеURI (для ссылок/цитирований):
Составитель:
Лепешев, Анатолий Александрович
Ушаков, Анатолий Васильевич
Карпов, Игорь Васильевич
Коллективный автор:
Сибирский федеральный университет
Дата:
2012Библиографическое описание:
Вакуумное ионно-плазменное оборудование для получения наноструктурных материалов : лаб. практикум / Сиб. федерал. ун-т, 2012. - Текст : электронный.Лаб. практикум.
Доступ к полному тексту открыт из сети СФУ, вне сети доступ возможен для читателей Научной библиотеки СФУ или за плату.
Аннотация:
В лабораторном практикуме приведены основные требования для выполнения лабораторных работ. Представлены основные сведения о вакуумных сильноточных плазменных технологических устройствах, о вакуумных технологических откачных устройствах, параметры дуговых разрядах низкого давления. Приведены примеры разработки технологических маршрутов для нанесения износостойких нанокристаллических покрытий в вакууме при помощи дугового разряда низкого давления. Предназначен для студентов и магистрантов по направлению 223200.68 «Техническая физика».
Права на использование:
Для личного использования.